წყლის გაგრილების პულსი პერიოდული უკუ 415 ვ ელექტროლიზის დენის წყარო

წყლის გაგრილების პულსი პერიოდული უკუ 415 ვ ელექტროლიზის დენის წყარო

1. პერიოდული საპირისპირო იმპულსური დაფარვის ძირითადი პრინციპი

პულსური დაფარვის პროცესში, როდესაც დენი ჩართულია, ელექტროქიმიური პოლარიზაცია იზრდება, ლითონის იონები კათოდის მიდამოებთან სრულად დეპონირდება, ხოლო საფარის ფენა წვრილად კრისტალიზებულია და კაშკაშა; როდესაც დენი გამორთულია, გამონადენი იონები კათოდის ზონასთან უბრუნდება საწყის კონცენტრაციას. კონცენტრაციის პოლარიზაცია აღმოფხვრილია.
პერიოდული კომუტაციის იმპულსური დაფარვა საყოველთაოდ ცნობილია, როგორც ორმაგი (ანუ ორმხრივი) იმპულსური დაფარვა. იგი შემოაქვს საპირისპირო პულსის დენის კომპლექტს წინა პულსის დენის ნაკრების გამოტანის შემდეგ. წინა პულსის ხანგრძლივობა გრძელია, ხოლო საპირისპირო პულსი ხანმოკლე. უაღრესად არაერთგვაროვანი ანოდური დენის განაწილება, რომელიც გამოწვეულია ხანმოკლე საპირისპირო პულსით, გამოიწვევს საფარის ამოზნექილი ნაწილის ძლიერ დაშლას და გაბრტყელებას. ტიპიური პერიოდული კომუტაციის პულსის ტალღის ფორმა ნაჩვენებია ქვემოთ.

მახასიათებლები
დროის კონტროლის ფუნქციის გამოყენებით, პარამეტრი მარტივი და მოსახერხებელია, ხოლო დადებითი და უარყოფითი დენის პოლარობის სამუშაო დრო შეიძლება თვითნებურად დაყენდეს მოპირკეთების პროცესის მოთხოვნების შესაბამისად.
მას აქვს სამი სამუშაო მდგომარეობა ციკლის ავტომატური ცვლის, დადებითი და უარყოფითი და საპირისპირო და შეუძლია ავტომატურად შეცვალოს გამომავალი დენის პოლარობა.

პერიოდული კომუტაციის პულსური მოოქროვილის უპირატესობა
1 საპირისპირო პულსის დენი აუმჯობესებს საფარის სისქის განაწილებას, საფარის სისქე ერთგვაროვანია და ნიველირება კარგია.
2 საპირისპირო პულსის ანოდის დაშლა იწვევს ლითონის იონების კონცენტრაციას კათოდის ზედაპირზე სწრაფად აწევას, რაც ხელს უწყობს მაღალი პულსის დენის სიმკვრივის გამოყენებას შემდგომ კათოდის ციკლში, ხოლო პულსის დენის მაღალი სიმკვრივე ქმნის ფორმირების სიჩქარეს. ბროლის ბირთვი უფრო სწრაფია, ვიდრე ბროლის ზრდის ტემპი, ამიტომ საფარი მკვრივი და ნათელია, დაბალი ფორიანობით.
3. საპირისპირო პულსური ანოდის ამოღება მნიშვნელოვნად ამცირებს ორგანული მინარევების (მათ შორის გამაღიავებელი) ადჰეზიას საფარში, ამიტომ საფარს აქვს მაღალი სისუფთავე და ძლიერი წინააღმდეგობა გაუფერულების მიმართ, რაც განსაკუთრებით შესამჩნევია ვერცხლის ციანიდის მოოქროვებაში.
4. საპირისპირო პულსის დენი აჟანგებს საფარში შემავალ წყალბადს, რამაც შეიძლება აღმოფხვრას წყალბადის მყიფეობა (როგორიცაა საპირისპირო პულსმა შეიძლება ამოიღოს თანადაფენილი წყალბადი პალადიუმის ელექტროდეპოზიციის დროს) ან შეამციროს შიდა სტრესი.
5. პერიოდული საპირისპირო იმპულსური დენი მუდმივად ინარჩუნებს მოოქროვილი ნაწილის ზედაპირს აქტიურ მდგომარეობაში, რათა მიღებულ იქნეს მოპირკეთებული ფენა კარგი შემაკავშირებელი ძალით.
6. საპირისპირო პულსი სასარგებლოა დიფუზიური ფენის რეალური სისქის შესამცირებლად და კათოდური დენის ეფექტურობის გასაუმჯობესებლად. ამიტომ, სათანადო პულსის პარამეტრები კიდევ უფრო დააჩქარებს საფარის დეპონირების სიჩქარეს.
7 დაფარვის სისტემაში, რომელიც არ იძლევა ან მცირე რაოდენობით დანამატებს, ორმაგი იმპულსური საფარის მიღებას შეუძლია თხელი, გლუვი და გლუვი საფარი.
შედეგად, საფარის მუშაობის ინდიკატორები, როგორიცაა ტემპერატურის წინააღმდეგობა, აცვიათ წინააღმდეგობა, შედუღება, სიმტკიცე, კოროზიის წინააღმდეგობა, გამტარობა, გაუფერულების წინააღმდეგობა და სიგლუვე, ექსპონენტურად გაიზარდა და მას შეუძლია მნიშვნელოვნად დაზოგოს იშვიათი და ძვირფასი ლითონები (დაახლოებით 20%-50 %) და დაზოგეთ დანამატები (როგორიცაა ნათელი ვერცხლის ციანიდის მოპირკეთება დაახლოებით 50%-80%)