მაღალი ძაბვის მუდმივი დენის წყაროს მორგება, რეგულირებადი მუდმივი დენის წყარო 20V 200A 4000W

პროდუქტის აღწერა:

GKD20-200CVC-ის მორგებულ დენის წყაროს შეუძლია 200 ამპერამდე დენის მიწოდება 20 ვოლტის ძაბვაზე. მას აქვს დისტანციური მართვის პანელი 6 მეტრიანი მართვის სადენებით, რათა მართოს კვების წყარო და ვენტილატორის გაგრილება.

პროდუქტის ზომა: 40*35.5*13 სმ

წმინდა წონა: 26 კგ

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

სპეციფიკაცია
ონკანის ტიპი	აბაზანის ნიჟარის ონკანები,
ინსტალაციის ტიპი	ცენტრალური ნაკრები,
სამონტაჟო ხვრელები	ერთი ხვრელი,
სახელურების რაოდენობა	ერთი სახელური,
დასრულება	Ti-PVD,
სტილი	ქვეყანა,
ნაკადის სიჩქარე	მაქსიმუმ 1.5 GPM (5.7 ლ/წთ),
სარქვლის ტიპი	კერამიკული სარქველი,
ცივი და ცხელი გადამრთველი	დიახ,
ზომები
საერთო სიმაღლე	240 მმ (9.5")
ნახვრეტის სიმაღლე	155 მმ (6.1")
ჩასასხმელი სიგრძე	160 მმ (6.3")
ონკანების ცენტრი	ერთი ხვრელი,
მასალა
ონკანის კორპუსის მასალა	სპილენძი,
ონკანის ონკანის მასალა	სპილენძი,
ონკანის სახელურის მასალა	სპილენძი,
აქსესუარების ინფორმაცია
სარქველი შედის	დიახ,
დრენაჟი შედის	არა,
წონები
წმინდა წონა (კგ)	0.99,
გადაზიდვის წონა (კგ)	1.17,

შეყვანის პარამეტრები

ცვლადი დენის შეყვანა 220 ვ სამფაზიანი
გამომავალი პარამეტრები

DC 0~20V 0~200A უწყვეტად რეგულირებადი
გამომავალი სიმძლავრე

4 კვტ
გაგრილების მეთოდი

იძულებითი ჰაერის გაგრილება
კონტროლის რეჟიმი

დისტანციური მართვა
ეკრანის ჩვენება

ციფრული დისპლეი
მრავალჯერადი დაცვა

OVP, OCP, OTP, SCP დაცვა
მორგებული დიზაინი

მხარდაჭერა OEM და OEM
გამომავალი ეფექტურობა

≥90%
დატვირთვის რეგულირება

≤±1% FS

მოდელი და მონაცემები

მოდელის ნომერი	გამომავალი ტალღა	მიმდინარე ჩვენების სიზუსტე	ვოლტის ჩვენების სიზუსტე	CC/CV სიზუსტე	აწევა და კლება	გადაჭარბებული შეფასება
GKD20-200CVC	VPP≤0.5%	≤10mA	≤10mV	≤10mA/10mV	0~99S	No

პროდუქტის გამოყენება

გრავირების პროცესებში, მუდმივი დენის დენის წყაროები აუცილებელია კონტროლირებადი ელექტროენერგიის უზრუნველსაყოფად, რომელიც საჭიროა სუბსტრატიდან მასალის მოსაშორებლად, ნიმუშების, სტრუქტურების ან მახასიათებლების შესაქმნელად.

გრავირება

გრავირება კრიტიკულ ეტაპს წარმოადგენს სხვადასხვა ინდუსტრიაში, მათ შორის ნახევარგამტარების წარმოებაში, მიკროელექტრონიკაში, MEMS-სა (მიკროელექტრომექანიკური სისტემები) და ნანოტექნოლოგიაში. ეს კვების წყაროები გადამწყვეტ როლს თამაშობენ ზუსტი, კონტროლირებადი და განმეორებადი გრავირების შედეგების მიღწევაში.

დენის წყაროები გადამწყვეტი მნიშვნელობისაა ელექტროლიზის ექსპერიმენტებისთვის, სადაც წყლის ან სხვა ნაერთების ელექტროლიზი ხორციელდება. ელექტროლიტური ხსნარში სპეციფიკური ძაბვის გამოყენებით, მკვლევარებს შეუძლიათ წყლის მოლეკულების დაშლა წყალბადის და ჟანგბადის აირებად ან სხვა სასურველი ქიმიური რეაქციების ჩატარება. დენის წყაროები ელექტროლიზის პროცესის, მათ შორის აირის გამოყოფის სიჩქარის ზუსტი კონტროლის საშუალებას იძლევა.

ელექტროლიზის ექსპერიმენტები
პოტენციოსტატული და გალვანოსტატული სისტემები ფართოდ გამოიყენება ელექტროქიმიურ კვლევებში. ეს სისტემები მოიცავს მუდმივი დენის წყაროებს, რათა უზრუნველყონ საჭირო ძაბვა ან დენი სხვადასხვა ელექტროქიმიური გაზომვებისთვის, როგორიცაა ციკლური ვოლტამპერომეტრია, ქრონოამპერომეტრია და იმპედანსის სპექტროსკოპია. მუდმივი დენის წყაროები საშუალებას იძლევა გამოყენებული პოტენციალის ან დენის ზუსტი კონტროლისა ამ გაზომვების დროს.

პოტენციოსტატული/გალვანოსტატული სისტემები
მუდმივი დენის დენის წყაროები გამოიყენება ენერგიის შენახვის მოწყობილობების, როგორიცაა აკუმულატორები, საწვავის ელემენტები და სუპერკონდენსატორები, ტესტირებისა და დახასიათებისთვის. მკვლევარებს შეუძლიათ გამოიყენონ მუდმივი დენის წყაროები ამ მოწყობილობების დატენვისა და განმუხტვის პირობების სიმულირებისთვის. კონკრეტული ძაბვის პროფილების ან დენის ტალღური ფორმების გამოყენებით, მათ შეუძლიათ შეაფასონ ენერგიის შენახვის სისტემების მუშაობა, ეფექტურობა და ციკლური სტაბილურობა.

ენერგიის შენახვის მოწყობილობის ტესტირება
კოროზიის კვლევებში მუდმივი დენის წყაროები აუცილებელია მასალების კოროზიული ქცევის სიმულირებისა და შეფასებისთვის. მკვლევარებს შეუძლიათ გამოიყენონ კონტროლირებადი ძაბვა ან დენი კოროზიის სიჩქარის, კოროზიის პოტენციალის და სხვა ელექტროქიმიური პარამეტრების შესასწავლად. მუდმივი დენის წყაროები საშუალებას იძლევა კოროზიის პროცესის ზუსტი კონტროლისა და მონიტორინგის სხვადასხვა გარემოში.

კოროზიის კვლევები