მორგება მაღალი ძაბვის DC კვების წყარო რეგულირებადი რეგულირებადი DC კვების წყარო 20V 200A 4000W

პროდუქტის აღწერა:

GKD20-200CVC მორგებული DC კვების წყაროს შეუძლია 200 ამპერამდე დენის მიწოდება 20 ვოლტ ძაბვაზე. მას აქვს დისტანციური მართვის ყუთი 6 მეტრიანი საკონტროლო მავთულით, რომელიც აკონტროლებს ელექტრომომარაგებას და ვენტილატორის გაგრილებას.

პროდუქტის ზომა: 40*35.5*13 სმ

წმინდა წონა: 26 კგ

გამოგვიგზავნეთ ელ.წერილი

სპეციფიკაცია
ონკანის ტიპი	აბაზანის ნიჟარის ონკანები,
ინსტალაციის ტიპი	ცენტრის ნაკრები,
სამონტაჟო ხვრელები	ერთი ხვრელი,
სახელურების რაოდენობა	ერთი სახელური,
დასრულება	Ti-PVD,
სტილი	ქვეყანა,
ნაკადის სიჩქარე	1.5 GPM (5.7 ლ/წთ) მაქსიმუმ,
სარქვლის ტიპი	კერამიკული სარქველი,
ცივი და ცხელი გადამრთველი	დიახ,
ზომები
საერთო სიმაღლე	240 მმ (9,5"),
ყელის სიმაღლე	155 მმ (6.1"),
ყელის სიგრძე	160 მმ (6.3"),
ონკანის ცენტრი	ერთი ხვრელი,
მასალა
ონკანის კორპუსის მასალა	სპილენძი,
ონკანის ამოფრქვევის მასალა	სპილენძი,
ონკანის სახელურის მასალა	სპილენძი,
ინფორმაცია აქსესუარების შესახებ
სარქველი მოყვება	დიახ,
მოყვება დრენაჟი	არა,
წონები
წმინდა წონა (კგ)	0.99,
ტრანსპორტირების წონა (კგ)	1.17,

თვისება

შეყვანის პარამეტრები

AC შეყვანა 220V სამფაზიანი
გამომავალი პარამეტრები

DC 0~20V 0~200A მუდმივად რეგულირებადი
გამომავალი სიმძლავრე

4 კვტ
გაგრილების მეთოდი

ჰაერის იძულებითი გაგრილება
კონტროლის რეჟიმი

დისტანციური მართვა
ეკრანის ჩვენება

ციფრული დისპლეი
მრავალჯერადი დაცვა

OVP, OCP, OTP, SCP დაცვა
მორგებული დიზაინი

მხარდაჭერა OEM & OEM
გამომავალი ეფექტურობა

≥90%
დატვირთვის რეგულაცია

≤±1% FS

მოდელი და მონაცემები

მოდელის ნომერი	გამომავალი ტალღა	მიმდინარე ჩვენების სიზუსტე	ვოლტის ჩვენების სიზუსტე	CC/CV სიზუსტე	Ramp-up და ramp-down	ზედმეტად სროლა
GKD20-200CVC	VPP≤0,5%	≤10mA	≤10 მვ	≤10mA/10mV	0~99S	No

პროდუქტის აპლიკაციები

გრავირების პროცესებში, მუდმივი დენის წყაროები აუცილებელია კონტროლირებადი ელექტრული ენერგიის უზრუნველსაყოფად, რომელიც საჭიროა სუბსტრატიდან მასალის მოსაშორებლად, შაბლონების, სტრუქტურების ან მახასიათებლების შესაქმნელად.

Etch

გრავირება არის კრიტიკული ნაბიჯი სხვადასხვა ინდუსტრიებში, მათ შორის ნახევარგამტარების წარმოებაში, მიკროელექტრონიკაში, MEMS (მიკრო-ელექტრო-მექანიკური სისტემები) და ნანოტექნოლოგიაში. ეს დენის წყაროები გადამწყვეტ როლს თამაშობენ ზუსტი, კონტროლირებადი და განმეორებადი ოქროვის შედეგების მისაღწევად.

მუდმივი დენის წყაროები გადამწყვეტია ელექტროლიზის ექსპერიმენტებისთვის, სადაც ხდება წყლის ან სხვა ნაერთების ელექტროლიზი. ელექტროლიტის ხსნარზე სპეციფიური ძაბვის გამოყენებით, მკვლევარებს შეუძლიათ წყლის მოლეკულების დაყოფა წყალბადის და ჟანგბადის აირებად ან სხვა სასურველი ქიმიური რეაქციების განხორციელება. DC დენის წყაროები იძლევა ელექტროლიზის პროცესის ზუსტი კონტროლის საშუალებას, გაზის ევოლუციის სიჩქარის ჩათვლით.

ელექტროლიზის ექსპერიმენტები
ელექტროქიმიურ კვლევებში ხშირად გამოიყენება პოტენციოსტატი და გალვანოსტატის სისტემები. ეს სისტემები აერთიანებს მუდმივი დენის წყაროს, რათა უზრუნველყოს საჭირო ძაბვა ან დენი სხვადასხვა ელექტროქიმიური გაზომვებისთვის, როგორიცაა ციკლური ვოლტამეტრია, ქრონოამპერომეტრია და წინაღობის სპექტროსკოპია. მუდმივი დენის წყაროები შესაძლებელს ხდის ამ გაზომვების დროს გამოყენებული პოტენციალის ან დენის ზუსტ კონტროლს.

პოტენციოსტატი/გალვანოსტატის სისტემები
DC დენის წყაროები გამოიყენება ენერგიის შესანახი მოწყობილობების ტესტირებისა და დახასიათებისას, როგორიცაა ბატარეები, საწვავის უჯრედები და სუპერკონდენსატორები. მკვლევარებს შეუძლიათ გამოიყენონ DC კვების წყაროები ამ მოწყობილობების დატენვისა და განმუხტვის პირობების სიმულაციისთვის. კონკრეტული ძაბვის პროფილების ან დენის ტალღის ფორმების გამოყენებით, მათ შეუძლიათ შეაფასონ ენერგიის შესანახი სისტემების მოქმედება, ეფექტურობა და ციკლური სტაბილურობა.

ენერგიის შესანახი მოწყობილობის ტესტირება
DC დენის წყაროები აუცილებელია კოროზიის კვლევებში მასალების კოროზიის ქცევის სიმულაციისა და შესაფასებლად. მკვლევარებს შეუძლიათ გამოიყენონ კონტროლირებადი ძაბვა ან დენი კოროზიის სიჩქარის, კოროზიის პოტენციალის და სხვა ელექტროქიმიური პარამეტრების შესასწავლად. DC დენის წყაროები იძლევა კოროზიის პროცესის ზუსტ კონტროლს და მონიტორინგს სხვადასხვა გარემოში.

კოროზიის კვლევები